반도체 공정 포토레지스트(PR) 소재 전문기업 #삼양엔씨켐 공모주청약 정보입니다. 반도체 포토레지스트(PR)용 핵심 소재를 국내 최초로 국산화한 기업이고, PR의 주요 구성 요소인 폴리머(Polymer)와 광산발산제(PAG)를 개발·생산하고 있습니다.
종목명 | 청약일 | 환불일 상장일 |
공모가 (밴드) |
최소청약 증거금 |
넷꾼 참여 |
삼양엔씨켐 | 1.16~ 1.17금 12.17화 |
1.21 미정 미정 |
16,000~ 18,000 |
90,000 | 보통 |
KB증권 | 【38】 - 【iPO】 반도체 포토레지스트(PR) 소재 전문기업, 흑자 |
[반도체 Photo 공정용 소재]
Semiconductor Application Materials: 반도체 제조의 핵심 공정인 Photo 공정에 사용되는 정밀화학 소재로, 합성(Synthesis)와 정제(Purification) 기술을 기반으로 합니다.
ㆍPR용 Polymer: Photoresist 특성을 좌우하는 핵심 화학 물질입니다.
ㆍPR용 PAG (Photo Acid Generator): 빛을 흡수하면 산이 발생하며 발생된 산이 촉매가 되어 Polymer 구조를 변형시켜 패턴이 형성 됩니다.
ㆍPR용 Monomer: Polymer의 출발 물질입니다.
ㆍPR용 Additive: Photo Resist의 성능에 대한 보조역할을 하는 물질입니다.
ㆍBARC용 Polymer: PR 하단에 코팅되는 반사방지막으로 phtolithograpy 공정 중 기판에 반사되는 빛으로 인한 문제점을 억제하여 일정한 페터닝을 할 수 있도록 도와주는 물질입니다.
ㆍSOH용 Polymer/Monomer: 패턴 미세화에 따라 Etch 공정 중 Photo resist 붕괴를 막기 위한 지지층 역할을 합니다.
[반도체 Wet 공정용 소재]
반도체용 고기능성 습식 화학제품
반도체 Wet 공정에 사용되는 소재로, 각 공정의 수율 및 불량 개선을 위한 필수 소재.
원료 정제(Purification), 재생(Recycle), 배합(Formulation) 기술 및 계면활성제 응용 기술을 기반으로 합니다.
ㆍWet 공정용 소재 중간체
ㆍWet 공정용 소재 Toll Manufacturing
ㆍ반도체 공정용 소재 Purification
2024-11-18 머니투데이: 삼양엔씨켐, 증권신고서 제출…12월 코스닥 상장 목표
2024-11-21 아시아경제: [증권신고서 읽는 기자]삼양엔씨켐, 상장 자금 차입금 상환에
2024-11-22 NEWSTOF: 삼양엔씨켐, 공모주 시장 한파 속 ‘옥’ 될까
청약일정/공모가/상장일가격범위/수요예측/경쟁률 등은 맨아래 마지막 표를 보세요.
최대주주 #삼양홀딩스 (상장회사) 지분 67.68%, 계열회사 #우리 (비상장) 4.67%, 특수관계인들 포함 경영권 지분은 77.57%이고, #넥서스홀딩스 (비상장회사; 기존 최대주주) 17.66%, 중소기업은행 1.12%, 투자조합 등이 투자했고, 1% 미만 소액주주는 10명 5.21% 수준입니다. #우리 회사는 삼양그룹 4세들이 100% 현물출자해 세운 부동산 회사입니다.
별도 재무제표 |
2024년 3개분기 |
2023년 | 2022년 | 2021년 |
매출 | 811.6억 | 986.0억 | 953.2억 | 716.6억 |
영업손익 | 80.0억 | 73.7억 | 23.2억 | -55.9억 |
당기순손익 | 62.6억 | 46.8억 | 8.7억 | -54.4억 |
청약일정 연기: "2024.12.16~12.17화" → "2025.1.16~1.17금"
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● 2024년 12월 공모주청약 ● (3) | 2024.11.24 |
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